―　講 演 内 容　―

14:00 開会挨拶　 

14:05【 特別講演】「国際標準化活動から学んだこと― ISO/TC 201, ISO/TC 229活動をもとに― 」
　　　　一村信吾（産業技術総合研究所 特別顧問）

【概要】講演者は、1992年に東京で開催されたISO/TC 201総会に参加したのを契機として、30年以上にわたって国際標準化活動に係ってきた。主たる活動の場は、ISO/TC201（表面化学分析）とISO/TC229（ナノテクノロジー）で、現在も、CPS（Cyber Physical System）型複合計測の概念のもとに、計測分析装置の試料位置合わせ技術や出力データ形式の標準化に従事している。この間、エキスパートとして研究開発成果の規格作りに関与しただけではなく、国際議長や国内審議委員会の委員長など、全体を俯瞰する立場も経験した。具体的な標準化活動内容とともに、これまでの学び、思いの一端を紹介させて頂きたい。

14:45「表面分析としての「質量分析法」の国際規格開発の現状と今後の動向 」
　　　高野明雄（株式会社トヤマ） 

【概要】ISO TC201/SC6では、発足以来ながらく「二次イオン質量分析法（SIMS）」に関する国際規格を開発してきた。MALDIやAPTなどの様々な質量分析法が表面分析手段として利用されるようになったことに伴い、2024年に「質量分析法」と名称を変え、適用範囲すなわち取り扱う手法を拡大した。今では、TC201/SC6は、SIMSに関するワーキンググループ（WG）の他、アトムプロブー法と質量分析イメージング法の2つのスタディグループ（SG）を持つに至っている。過去にJSCA国際標準化セミナーで、TC201/SC6の活動状況を紹介したのは 2019年に遡る。本セミナーでは、その後に開発された規格の概要、および今後の規格開発の動向を紹介したい。

15:05「分析電子顕微鏡技術とFIB加工分野の国際標準化を通じた研究とエキスパートの役割 」
　　　杉山 昌章（大阪大学大学院） 

【概要】分析電子顕微鏡分野では、TEM画像倍率、電子回折手順、EELSエネルギー校正法等のTEMとしての要素技術に関わる国際標準化規格が開発されてきている。これに対して近年、幅広い材料のTEM試料作製法に使われるFIB加工技術についての国際標準化活動を日本から発信する形で精力的に行っている。ただ試料作製技術はそのままTEM試料表層部の品質状態を問うことになり、未解明な部分も多く研究領域と標準化の接点についても考えていかなければならない。　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　昨年度は「国際標準化の歩みと国際幹事の役割」が紹介されたが、今年度はマイクロビームアナリシスに関する規格開発の研究要素についても考察することとし、標準化活動の中ではExpertと呼ばれる研究専門家の役割について紹介する。

15:25「集束イオンビーム加工を利用したマイクロビーム分析技術に関する標準化ニーズ調査」
　　　野久尾 毅（日本電子株式会社）

【概要】JSCA ISO/TC 202対応委員会のTerminology WG、AEM-WG、SEM-WG を中心としたメンバーが、経済産業省の戦略的国際標準化加速事業の枠組みを用い、二つのWGに分かれて標準化活動を進めている。この二つのWGは、TEM 試料作製に関する FIB 技術を扱う「FIB加工表層部の評価WG」と FIB-SEM 装置に関する FIB 技術を扱う「FIB-SEM複合装置規格化WG」である。この事業の中で、令和6年度に FIB-SEM について標準化ニーズ調査をおこなった。本報告では、この標準化ニーズ調査結果とその結果をもとにまとめた FIB-SEM 標準化ビジネスプランについて紹介する。

15:45 「微小部蛍光X線分析に求められるX線ビーム径評価 」
　　　辻 幸一（大阪公立大学大学院）

【概要】ポリキャピラリ―X線集光素子を用いた蛍光X線分析装置が市販されており、その応用分野が拡大しつつある。例えば、各種材料の微小部での蛍光X線元素分析や半導体部品などにおける局所での膜厚測定などに利用されている。ここで、X線ビーム径はこの分析装置の性能を評価する１つの指標であるが、分析装置のカタログや仕様書ではX線ビーム径の記載方法は統一されていない。そこで、X線表面分析WGでは、国際標準化に資するX線ビーム径の評価方法と推奨手順など議論しているので、進捗状況を報告する。最初にポリキャピラリX線集光素子の特徴を説明し、ナイフエッジ走査法と細線走査法によるX線ビーム径の評価例を紹介する。

16:05 閉会挨拶